2026年5月6日清晨，比佛利山庄一家酒店的屋顶露台上，ASML首席执行官Christophe Fouquet穿着蓝色西装、白色衬衫，神态松弛地接受了TechCrunch编辑的专访。就在几个小时前，他刚结束在多伦多的行程，准备前往米尔肯研究院全球会议做主题发言。面对关于公司市场垄断和新兴竞争对手的提问，这位在ASML工作超过十年、于2024年接任CEO的荷兰高管并未表现出丝毫紧张。
垄断的现实：没有人真正追赶我们
“人们经常问我：‘佳能呢？尼康呢？中国呢？’但坦白说，目前没有任何迹象表明他们能在短期内赶上我们。”Fouquet切开一块牛油果吐司，语气平淡，“我们花了近四十年建设技术栈，投入了数百亿美元研发，才实现今天EUV光刻机的量产。这不是靠买几台机器、挖几个工程师就能复制的。”他的话并非虚言：ASML在高端芯片制造光刻机领域占有超过90%的市场份额，其中极紫外光刻机更是全球独家供应商，每台售价超过3亿欧元，是台积电、三星、英特尔等巨头制造3纳米及以下先进芯片不可或缺的“心脏”。
“我们的客户不是随时可以找替代方案，他们绑定了我们的生态系统——包括蔡司镜头、Cymer光源，以及数十年的软件优化。”——Christophe Fouquet
技术壁垒：为何EUV光刻机无法被复制
EUV光刻机使用的13.5纳米波长极紫外光，需要在高真空环境下通过锡滴等离子体产生，再经多层反射镜聚焦。这背后的技术难度被工程师比作“在飓风中用激光瞄准苍蝇”。ASML通过与比利时IMEC、德国蔡司、美国Cymer等研究机构的长期合作，将物理极限一步步突破。相比之下，日本佳能虽然在纳米压印光刻技术上有所突破，但尚未能解决量产良率问题；尼康则已几乎退出高端光刻竞赛。中国上海微电子虽在193纳米深紫外光源上取得进展，但距离EUV仍有至少一代半差距。
Fouquet补充道：“即便某家公司突然从物理原理上成功实现了EUV，他们还需要花五年时间让机器稳定运行，再利用五年时间获得客户认证。而那时，我们已经进入了High-NA EUV时代。”ASML的High-NA EUV光刻机（数值孔径0.55）已开始向英特尔交付，用于量产1.4纳米及以下制程。
地缘政治下的双刃剑
ASML的垄断也使其成为全球芯片博弈的中心。荷兰政府在美国主导下，对华出口EUV光刻机实施严格管制。Fouquet对此表示：“我们理解政策逻辑，但限制出口并未削弱我们的技术优势，反而加速了中国替代方案的研发投入。长远看，这可能催生一个分裂的光刻技术体系。”但他仍认为，中国在未来十年内实现独立EUV的可能性微乎其微，“除非出现量子级跳跃式创新”。
编者按：真正的技术壁垒是国家意志与市场力量的合谋
ASML的垄断并非单纯的市场成功，而是荷兰、美国、德国、日本等国家半导体产业链长达数十年协同投资的结果。ASML每年研发投入超过40亿欧元，占营收比例约15%，且背后有ASMI、飞利浦等股东和政府的政策支持。这种由技术领先、专利护城河、客户锁定和政治杠杆共同构建的生态，使得任何单一国家或公司都难以在短时间内复制。即便中国以举国之力攻关，也仍需克服材料、光学、检测、软件等数百个细分领域的瓶颈。因此Fouquet的自信并非傲慢，而是基于对全球半导体格局的清醒判断。
但垄断也意味着风险：一旦EUV路线出现代际替代技术（如纳米压印或定向自组装），ASML可能遭遇“诺基亚时刻”。Fouquet在采访最后也承认：“我们永远不能自满。保持危机感，是垄断者最大的敌人。”这句话或许正是ASML能维持霸主地位的核心密码。
本文编译自TechCrunch
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